QuantumATK在电子材料与器件中的应用

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概述

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微电子学是当今对我们的日常生活有着重要影响的技术,尤其是在通讯、计算、消费电子、健康、运输、环境和安全领域。为确保高性能、高能效电子器件的发展,工业界开始着眼于可能部分替代传统硅晶体管的III-V族化合物、新兴二维电子材料等体系。而要高效寻找新型电子材料离不开原子级别的材料学计算模拟工具,这些工具在纳米电子领域的广泛应用节约了大量的开发成本和实现市场化的时间。

随着半导体器件特征尺度的小到纳米级别,对相关材料与器件进行基于量子力学的原子级别模拟显得越来越重要。这为传统的基于量子力学的材料模拟方法提出了很多的挑战,QuantumATK从建模工具、计算方法、分析工具等完整的模拟平台入手,致力于解决这些问题,为半导体器件的模拟提供有效、可靠、快捷的工具,特别双极器件模型的引入可以直接研究诸如pn结等复杂异质结构的各种性质。


QuantumATK 提供的模型和工具

  • 电子态
    •  计算半导体材料的能带、态密度、电子密度、电势等
    • 使用HSE06、MetaGGA、DFT-1/2、PPS等多种泛函得到半导体的精确带隙
    • 详见:材料电子态性质研究工具
  • 光学与光谱性质
  • 化合物半导体合金
    • 使用有效能带模型或SQS模型研究合金半导体
  • 载流子性质
    • 分析载流子的有效质量张量
    • 载流子迁移率。计算电子态、声子态以及完全的电声耦合矩阵,得到载流子的迁移率、霍尔系数、塞贝克系数等输运性质,以及输运性质受温度的影响
    • 详见:材料载流子与导电性质计算模拟工具
  • 多层堆叠和能带排列ldos_reverse_modified
    • 材料界面模型。直接创建半导体/氧化物/金属等材料界面模型或多层堆叠结构,采用更高效的方法对界面处进行有效的优化。
    • 肖特基势垒。方便的进行金属-半导体接触界面建模,分析耗尽层的电势,直接得到肖特基势垒的形状;直接计算PLDOS得到能带弯曲情况,深入分析半导体-金属接触部分的电学特性。
    • 能带排列。直接对界面等复杂体系进行局域投影态密度(PLDOS)的计算,可以十分方便的作出不同区域的能带情况,研究指定位置的态密度。
  • Sentaurus Materials Worksbench
    • 半导体材料模拟工具套件,可以用于多种复杂模型的计算模拟与仿真,例如:
      •  点缺陷性质:形成能与扩散动力学
      • 以第一原理计算为准对半经验能带模型(有效质量模型、k.p模型等)的参数进行校正
      • 从第一原理结果中提取能带示意图
      • 金属晶界电子散射和电阻率计算
    • 详见:Sentaurus Materials Workbench简介
  • 在原子水平上对电子器件进行仿真
    • QuantumATK中成熟的双电极器件模型(Two-probe device model)非平衡态格林函数方法(Non-Equilibrium Green’s Fucntion, NEGF)是研究器件在偏压下的电子输运性质的有力工具。在双电极器件模型的基础上,QuantumATK还可以使用高级的静电势模型,在器件区域增加具有指定介电常数的绝缘区域和具有特定电压的金属区域,用于模拟FET器件的转移特性,并分析开关比、亚阈值斜率、DIBL等等。
    • 详细介绍参见:

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