电极晶型调控 VSe2 基范德华磁隧道结的自旋转移力矩

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研究背景 磁隧道结是磁随机存取存储器的重要组成部分。通过改变两个铁磁层的相对磁化方向,器件可以在不同电阻态之间切换,实现信息读取;利用自旋转移力矩(STT),则有望通过电流直接驱动磁化翻转,实现电写入。对于低功耗存储器而言,高磁阻有利于区分存储状态,较低的翻转电流和电压有利于降低写入能耗,如何协调这两类性能是器件设计的关键。二维范德华材料为构建原子级厚度的磁隧道结提供了材料平台。除磁性层和隧穿势垒之外,外接电极的晶体结构也会改变界面耦合与电子输运。 研究内容 本研究采用 QuantumATK 软件中结合密度泛函理论与非平衡格林函数(DFT-NEGF)的方法开展电子结构和输运计算,并在非共线磁隧道结计算中考虑自旋轨道耦合。首先构建 TaS2/1T-VSe2/TaS2 异质结构,考察电极晶型如何影响界面电子态。1T 与 2H 相 TaS2 均具有金属性,但其面外能带、界面间距和轨道杂化不同,因此会形成不同的自旋依赖输运通道。 图 1. 分别采用 1T-TaS2 和 2H-TaS2 电极的 TaS2/1T-VSe2/TaS2 异质结构的(a-b)原子结构和(c-d)TaS2 层与 VSe2 层在费米能级处的局域态密度(LDOS)。在 1T 构型中,VSe2 层与 TaS2 电极之间的层间距离在 1T-TaS2 一侧为 3.57 Å,在 VSe2 一侧为 3.51 Å;而在 2H 构型中,两个界面的距离均为 3.38 Å。自旋分辨 LDOS(蓝色表示自旋向上,红色表示自旋向下)显示了各层的电子贡献,阴影区域对应 1T-VSe2 层的 LDOS,突出了该层对异质结构电子性质的贡献。 在此基础上,将单层 2H-MoS2 插入两个 1T-VSe2 铁磁层之间,形成 TaS2/1T-VSe2/2H-MoS2/1T-VSe2/TaS2 磁隧道结。自由单层 MoS2 是半导体,接入异质结构后,其费米能级附近出现与隧穿过程有关的金属诱导带隙态。两种电极晶型下的态密度差异表明,电极与中间层的电子耦合能够进一步改变势垒中的可用态。 图 2. 自由单层 2H-MoS2 的(a)原子结构和(b)态密度(DOS),以及其集成到以(c)半无限 1T 和(d)2H-TaS2 为电极的 TaS2/1T-VSe2/2H-MoS2/1T-VSe2/TaS2 异质结构磁隧道结中的情况。能量 E 以费米能级(E_F = 0)为参考,竖直虚线表示费米能级。自由态与集成态之间的 DOS 变化揭示了 MoS2 单层与不同相 TaS2 电极之间电子耦合的影响。 为考察磁化方向对读出性能的影响,研究固定左侧 VSe2 层的磁化方向,将右侧磁化方向在 xz 平面内从 […]

QuantumATK 磁性与自旋电子学合集(九)

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二维 Mn2P2Se6/Sc2CO2 范德华异质结构多铁隧道结中的高隧穿磁阻与隧穿电阻 多铁隧道结因其多功能特性,在非易失存储器件中展现出重要潜力。在范德华异质结构中,反转铁电材料的极化方向能够调控能带结构,为开发新型多铁隧道结提供了可能。本文选取二维铁电材料 Sc2CO2 与铁磁材料 Mn2P2Se6 构建范德华异质结构及多铁隧道结。通过相对平移 Mn2P2Se6 层以及反转 Sc2CO2 的极化方向,共考虑六种可能的堆垛构型。根据结合能计算,选择具有向上和向下极化的两种 AC 堆垛构型开展进一步研究。当铁电层极化由向上切换为向下时,AC 异质结构由金属态转变为半导体态。基于这一现象,分别以两种极化态的 AC 异质结构作为隧穿势垒、以金属 Mn2P2Se6 作为电极,设计二维横向多铁隧道结。两侧电极磁矩反平行排列可显著增大两种极化态器件的透射差异,使隧穿电阻比达到 621%。此外,当两侧电极磁化由平行变为反平行时,透射谱发生明显变化,产生高隧穿磁阻;在费米能级处,向上极化构型的 TMR 达 8.48×10³ %,向下极化构型为 1.257×10³ %。因此,AC 堆垛的 Mn2P2Se6/Sc2CO2 范德华异质结构适合用于高性能多铁隧道结和高密度非易失存储器件。(Journal of Physics: Condensed Matter, 2025, 37: 475301. DOI: 10.1088/1361-648X/ae1ab8.) Mn 掺杂块体 PbPdO2 的量子自旋输运性质 调控半导体中的自旋依赖输运对于发展低功耗自旋电子和自旋光电子器件至关重要。本文结合第一性原理密度泛函理论与非平衡格林函数方法,系统研究 Mn 掺杂 PbPdO2的自旋极化输运性质。结果表明,Mn 掺杂 PbPdO2 呈现新颖的自旋过滤行为:在平行磁排列和 0-0.35 V 偏压范围内,自旋向上电流比自旋向下电流高三个数量级。在 0.2 V 偏压下,器件可获得约 104 数量级的巨磁阻比。此外,在温度梯度不超过 400 K 时,体系还表现出热驱动自旋过滤效应,自旋极化接近 100%,可逆开关效率超过 80%。本研究弥补了过渡金属氧化物自旋输运机理认识中的关键空白,并为自旋过滤器件和磁阻传感器的设计提供了理论依据。(Physica B: Condensed Matter, 2026, 723: 418118. DOI: […]

基于双层 α-In2Se3 中畴壁工程的可调控输运和多状态存储

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研究背景 神经形态计算需要器件集成传感、计算和内存,以克服传统瓶颈。而多个非易失性状态是其关键特征,在原子尺度上实现多个非易失状态仍然具有挑战。 研究内容 为解决上述问题,常州大学王诤微电子学院徐月华副教授课题组利用第一性原理结合非平衡格林函数方法(NEGF-DFT),研究了由双层 α-In2Se3 不同畴组成器件的量子输运性质。在 0.1 V 小偏压下获得了 6 个非易失导电状态,输运机制由畴决定的沟道数和畴壁决定的势垒共同支配,这些状态有望在实验上实现相互转换。 首先研究了 R 和 H 堆叠的双层 α-In2Se3 不同构型的极化、电子态,以及极化与电荷之间的相互作用。 图 1.(a-b)双层 In2Se3 不同构型的晶体结构(c)电荷-偶极相互作用示意图(从左至右为 FE、AFE-TT 和 AFE-HH 构型)。FE 中的巡游电子在面外方向的运动受限,仅屏蔽退极化场,保留了面外极化,命名为自屏蔽效应。而在 AFE 构型中,层内电子在各自的退极化场下再次极化,产生束缚电荷,该束缚电荷对称地减弱单层极化,同时保持零净极化称为自极化效应。 图 2.(a-f)In2Se3 双层的能带结构以及导带(蓝色等值面)和价带(黄色等值面)在实空间的投影。在 FE 构型中,导带主要位于极化方向指向的单层,价带主要位于极化尾部所在的单层。在 AFE 构型中,导带和价带分别对称地分布在每个单层中偶极子的头部和尾部。这些现象归因于铁电材料中由本征电场引起的实空间能带弯曲。 令人惊讶的是,此前的实验研究表明少层 In2Se3 体系中,在施加适当的面外或面内电场后,PFM 信号的面外和面内分量都发生了 180° 的相移,在多层 In2Se3 体系中还检测到了单畴的 P-E 迟滞回线。基于这些实验证据在附件中对双层 In2Se3 的极化开关、探测方法进行了讨论。结果表明 H-堆叠的双层更易被检测和调控。 特别地,提出一个猜想:铁电材料对外电场响应的物理量是初、末态构型的极化值之差 ΔP。这能够很好地解释对称性理论与实验的矛盾:尽管理论上 In2Se3 没有净的面内极化,但不同极化状态构型之间却存在面内 ΔP(这一点也被计算结果证实)。当施加的面内电场具有与 ΔP 方向一致的分量,且能够克服势垒时,开关过程就能发生。 接下来,仅关注 H 堆叠双层的器件,考虑到 FE 构型的金属性,把它用作器件中的电极,而其他构型可以用作中心区。 图 3.(a)器件的原子结构示意图:FE/TT/FE(左上)、FE/HH/FE(右上)、FE/FEI/FE(左下)、FE/FEIII/FE(右下)(b-c)器件的 I–V 曲线(d)器件的 TER。以 AFE-TT、AFE-HH 和 -FE 作为中心区,分别得到 FE/TT/FE、FE/HH/FE 和 FE/FEI/FE;将两个单层中的畴壁向中心移动,得到 FE/FEII/FE;将畴壁垂直对齐,得到 FE/FEIII/FE;结合两种策略,得到 FE/FEIV/FE。计算六种器件在 -0.1 至 0.1 V 电压范围内的 I–V 特性和隧穿电致电阻比(TER),通过上述六种器件构型实现 6 个可区分的非易失导电状态。 计算投影局域态密度(PLDOS),从中提取势垒宽度和高度,计算得到 FE/TT/FE、FE/HH/FE、FE/FEI/FE 和 FE/FEII/FE 的隧穿概率,其相对大小与小偏压下的电流一致。畴壁移动对器件的影响不难理解(例如从 […]

交错磁自旋光伏电池实现光驱动纯自旋电流——基于 V2Te2O/ZnSe/V2Te2O 异质结的第一性原理量子输运研究

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研究背景 自旋电子学利用电子的自旋自由度进行信息传输与处理。其中,纯自旋电流由于不同自旋通道携带相反方向的电流、而总电荷电流接近于零,被认为是降低电荷输运损耗并实现高效自旋操控的重要载体。传统纯自旋流往往依赖重金属中的强自旋轨道耦合进行自旋-电荷转换,这不仅限制了可选材料体系,也可能带来额外的焦耳热和界面损耗。另一方面,光激发具有非接触、响应快和可调控性强等特点,为自旋流的产生与操控提供了另一条路径。特别是飞秒尺度的光激发与反铁磁及交错磁体系的超快自旋动力学天然匹配,使光与新型补偿磁体之间的耦合成为自旋光电子学的重要研究方向。 近年来受到广泛关注的交错磁(altermagnetism)在实空间中保持零净磁矩,但在动量空间中能够产生显著的、具有晶体对称性特征的非相对论自旋劈裂,因此兼具传统反铁磁体无杂散场和铁磁体强自旋选择性的部分优势。目前,交错磁器件研究主要集中在隧穿磁阻、霍尔输运等电子学方向,而如何将其动量依赖的自旋选择性进一步用于光电器件,仍有较大的探索空间。 研究内容 针对这一问题,湖北民族大学李强教授、新加坡科技设计大学 Ang Yee Sin 教授及方世博博士等提出了一种“交错磁自旋光伏电池”概念。器件采用金属-半导体-金属结构,由非磁、中心对称的 ZnSe 半导体层夹在两个金属交错磁 V2Te2O 电极之间。其核心思想并不是让半导体本身直接产生自旋极化光生载流子,而是利用两侧交错磁电极提供互补的自旋选择性输运通道,对光生载流子进行方向相关的自旋筛选。 图 1. 交错磁自旋光伏电池的器件构型及工作原理。平行(P)态下左右电极等价,各自旋通道的光电流受对称性约束而趋近于零;反平行(AP)态下,两侧电极提供互补的自旋选择性通道,使不同自旋载流子向相反方向提取。 当两个交错磁电极的 Néel 矢量处于平行(P)构型时,器件左右保持等价,交换两侧电极会反转电流方向而不改变自旋通道,因此每个自旋分辨光电流均受到对称性约束而接近于零。相反,在反平行(AP)构型下,两个电极可以视为具有相反 Néel 矢量的互补自旋选择性接触:ZnSe 中光激发产生的载流子初始仍是自旋简并的,但随后自旋向上和自旋向下的载流子分别更容易向相反电极输出,从而得到大小近似相等、方向相反的两个自旋分辨光电流。两者的电荷分量相互抵消,而自旋分量相加,因此形成有限的纯自旋光电流。 作为材料实现,研究选取二维交错磁金属 V2Te2O 作为电极。该材料具有典型的 d-wave 交错磁自旋劈裂:沿不同高对称方向,自旋向上和自旋向下能带会发生互换,并在费米面上形成明显的动量依赖自旋纹理;光敏区域选用非磁半导体 ZnSe。 本研究的器件级量子输运模拟主要通过 QuantumATK 软件完成。借助 QuantumATK 的第一性原理器件计算框架,研究团队搭建了由 V2Te2O 交错磁电极和 ZnSe 半导体组成的两探针光伏器件,并采用 DFT+NEGF 方法处理电极—散射区—电极开放体系的量子输运问题。在光照条件下,进一步计算自旋向上和自旋向下两个通道的光电流及光响应度,并系统考察光子能量、线偏振/圆偏振、偏振角以及电极 Néel 构型对光响应的影响。QuantumATK 的器件级计算使材料本征的交错磁自旋劈裂能够直接与可观测的自旋光电流建立联系,从而验证“交错磁自旋光伏电池”的工作机制。 图 2. 交错磁自旋光伏器件的第一性原理光响应(a)器件结构(b)线偏振光下的自旋分辨光响应(c)圆偏振光下的自旋分辨光响应(d)4 eV 光子能量下光响应随偏振角的变化 计算表明,在 AP 构型和 4 eV 线偏振光下,自旋向上和自旋向下的光响应度分别约为 −5.69 和 5.80 mA/W,净电荷光电流显著抵消,而纯自旋光电流保持有限;P 构型下两个自旋光响应均接近于零。该纯自旋光电流在线偏振和圆偏振光下均可出现,并可通过光子能量、偏振角及电极晶向进行调节。 总结 本工作提出并通过第一性原理量子输运计算验证了一种基于 V2Te2O/ZnSe/V2Te2O 异质结的交错磁自旋光伏电池。与依赖磁性吸收层自身产生自旋光电流的方案不同,该器件将“光生载流子产生”和“自旋选择性提取”分别交给非磁半导体和交错磁电极完成。在反平行 […]

面向光辅助存储的范德华多铁隧道结设计

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研究背景 随着人工智能、物联网和边缘计算的发展,信息器件需要在更小尺寸下实现更高密度、更低功耗和更丰富的状态编码。多铁隧道结(MFTJ)能够同时利用铁电极化和磁构型调控隧穿电流,有望通过隧穿电致电阻(TER)和隧穿磁电阻(TMR)实现多阻态非易失存储。然而,传统氧化物多铁隧道结常受到界面缺陷、接触电阻和较大电阻面积乘积(RA product)的限制,难以兼顾高开关比与低读写功耗。二维范德华材料表面无悬挂键、界面洁净,可在原子级厚度下构建高质量铁电/铁磁异质结,为低 RA、多阻态自旋电子器件提供了新的材料平台。该研究基于第一性原理和 DFT-NEGF 输运计算,提出由半金属 CoGa2Se4 电极夹持铁电双层 Ga2Se3 的 Cu/CoGa2Se4/bilayer-Ga2Se3/CoGa2Se4/Cu 范德华反铁电多铁隧道结(AFMFTJ)。研究重点在于揭示铁电极化如何驱动界面准欧姆/肖特基接触转换,并进一步实现巨 TER、显著 TMR、低 RA 以及可反向切换的光响应。 研究内容 首先构建四层半金属/铁电/铁电/半金属范德华异质结构模型。双层 Ga2Se3 可形成 FE-R、FE-L、AFE-H 和 AFE-T 四种极化态,不同极化方向改变界面电荷转移与内建电场,从而调节两侧 CoGa2Se4/Ga2Se3 接触类型。该思路将铁电极化从“调势垒高度”进一步扩展到“调界面接触”,为多阻态隧穿结设计提供了更直接的物理手段。 图 1.(a)由铁电双层晶体夹在两个半金属层之间构成的 vdW AFMFTJ 示意图,黑色虚线框表示可通过反转横向外加电场方向来操控铁电极化方向。(b-e)通过 vdW 界面工程在四层多铁模型中实现多电阻态的设计原理,并给出四层结构模型中 vdW 铁电双层的示意电子能带结构。横向蓝色箭头和纵向红色箭头分别表示铁电层的铁电极化方向和半金属层的磁化方向,灰色箭头表示电子转移方向。 材料性质方面,单层 CoGa2Se4 表现出半金属性,自旋向下通道具有约 0.80 eV 能隙,可作为高自旋极化电极;单层 Ga2Se3 为稳定半导体,间接带隙约 1.05 eV,并具有可翻转的面外铁电极化。二者通过范德华作用堆叠后,既保持各自功能特征,又形成可由极化调控的界面能带排列。 图 2.(a)单层 CoGa2Se4 晶体结构的俯视图和侧视图(b)P↑ 态和(c)P↓ 态下单层 Ga2Se3 晶体结构的俯视图和侧视图(d)单层 CoGa2Se4 和(e)单层 Ga2Se3 的能带结构,蓝色箭头表示铁电极化方向。 能带计算表明,四种极化态对应完全不同的界面接触。FE-R 和 FE-L 中,一个界面接近准欧姆接触,另一个界面形成肖特基势垒;AFE-H 中两侧界面均趋向准欧姆接触;AFE-T 中两侧界面均表现为肖特基接触。该接触转换来源于 CoGa2Se4 与双层 Ga2Se3 之间的功函数差、极化场驱动的能带移动以及多界面电子转移。 […]

QuantumATK 磁性与自旋电子学合集(八)

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交错磁体 CrSb 基磁性隧道结中的自旋依赖输运 交错磁性是一种新兴磁有序态,兼具铁磁体的自旋极化和反铁磁体抵抗磁扰动的能力,为突破传统自旋电子器件的性能瓶颈提供了新途径。本文聚焦交替磁体 CrSb,通过对称性分析和密度泛函理论计算,揭示其三维布里渊区内由实空间旋转与镜面操作保护的自旋极化能带结构,并分析自旋轨道耦合对能带简并的调控作用。结合非平衡格林函数方法,研究基于 CrSb 的交错磁性隧道结的量子输运性质。结果表明,采用 2.196 Å 真空势垒时,费米能级附近的隧穿磁阻比达到 60%;当真空替换为有效厚度 4.4 Å 的单层 h-BN 后,TMR 降至 20%。该工作结合 Néel 自旋流,阐明了交错磁性子晶格自旋通道的协同输运机制,拓展了交替磁体的理论框架,并为基于 g 波对称交替磁性的自旋电子器件设计奠定基础。(Applied Physics Letters, 2025, 127: 182409. DOI: 10.1063/5.0278985.) 原子位移下 Rashba 自旋轨道耦合增强 Cs3Bi2Br9/α-In2Se3 异质结构的铁电性与自旋动力学 多种材料中已发现有趣的铁电极化,其中本征对称性破缺和自旋轨道耦合发挥重要作用,但 Br 原子位移条件下 Rashba 自旋轨道耦合调控铁电性质的机制仍不清楚。本研究采用杂化泛函和包含自旋轨道耦合的第一性原理非绝热分子动力学,阐明原子位移对铁电 Cs3Bi2Br9/α-In2Se3↓ 异质结构铁电性和载流子自旋动力学的影响。结果显示,Rashba 自旋轨道耦合通过增强对称性破缺显著提高铁电性;Br 原子位移使铁电极化达到 0.69 μC/cm2,自旋分裂强度达到 αR = 1.18 eV/Å。自旋分裂发生在异质结构导带底,同自旋通道载流子主要通过电子-声子耦合弛豫。弛豫过程由自旋向下载流子主导,其电子与空穴弛豫时间差为自旋向上通道的约五倍(空穴约两倍)。当 ΔdBr-Bi = 0.008 Å 时,界面电子-空穴复合时间缩短至 122.78 fs,并显著改善载流子分离效率。研究还表明,铁电极化能够有效调控该异质结构中的自旋光电流。(Physical Review B, 2025, 112: 174312. […]

电场执笔、层自由度传信:一体化交错磁隧道结实现全电控读写

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研究背景 交错磁体(altermagnet)兼具反铁磁体与铁磁体的优势:在实空间中具有补偿的磁矩,因而几乎不产生杂散场;同时又能在动量空间中形成非相对论性自旋劈裂,为自旋选择性输运提供基础。这些特性使交错磁体成为高密度、低功耗自旋电子器件的重要候选材料。 磁隧道结通常通过平行态(P)和反平行态(AP)之间的电阻差异存储和读取信息。在已有交错磁隧道结方案中,这两种状态往往依赖 Néel 矢量翻转来切换。然而,交错磁体的总磁矩严格补偿,利用自旋转移力矩(STT)或自旋轨道力矩(SOT)实现确定的 Néel 矢量翻转仍然困难,复杂的界面结构还可能带来效率损失和额外的能耗。研究关注的核心问题是:能否不翻转 Néel 矢量,只借助电场就完成交错磁隧道结的写入与切换? 为此,研究者把目光转向具有自旋—层耦合的双层交错磁半导体 V2Se2O。该体系的上下两层具有符号相反的自旋极化。零电场下,空间反演与时间反演的联合对称性使能带保持整体自旋简并;施加垂直电场后,层间电势差打破这一对称性,隐藏的自旋劈裂便可在不同层上显现。只需反转电场方向,就能够反转自旋劈裂的符号,而 Néel 矢量则始终不变。 图 1.(a)双层 V2Se2O 原子结构及交错磁序(b-c)导带附近的动量分辨自旋分布及侧视图(d-f)在 0、0.2 和 −0.2 V/Å 垂直电场下的自旋分辨能带(g-i)相应的层投影能带 研究内容 基于上述机制,选择双层 V2Se2O 作为原型,沿其(010)方向构建交错磁隧道结。与“金属电极—势垒—金属电极”的传统多材料结构不同,该器件由同一种双层材料连续构成,左右区域通过两组栅极分别施加垂直电场。两端电场方向相同时,两侧自旋通道相互匹配,器件处于平行态;两端电场方向相反时,自旋通道彼此不匹配,器件处于反平行态。换言之,P 态和 AP 态的写入不再依赖磁序翻转,而是通过改变电场方向直接切换。 第一性原理结合非平衡格林函数的量子输运计算显示,在 |E| = 0.2 V/Å、零偏压条件下,隧穿磁阻(TMR)为 1.10×1010 %。其物理图像十分直观:P 态下左右区域的自旋分辨费米面高度匹配,电子能够顺利传输;AP 态下相应通道彼此失配,隧穿过程受到强烈抑制。TMR 在一定偏压下仍保持在 104 %以上。 图 2.(a)栅极调控的器件示意图(b)P 态和 AP 态下两端电极的二维费米面匹配关系(c)P 态和 AP 态的总透射谱(d-e)透射系数和 TMR 随能量的变化(f-i)P 态和 AP 态下的自旋分辨透射本征态 该器件还呈现出鲜明的“层过滤”特征。在 0.2 V/Å 电场下,穿越费米能级的能带主要来自双层 V2Se2O 的底层,因此 P 态中的自旋向上和自旋向下通道都集中在底层,而顶层基本不参与输运。这意味着电子的传输不仅具有自旋选择性,还携带可分辨的层信息。层自由度由此成为新的信息载体,也为实验识别器件导电状态提供了可能。若能分别探测上下层信号,便可直接检验电场是否使器件保持在理想的单层过滤工作区间。 随后,进一步系统考察电场强度对器件性能的影响。随着 |E| 由 0.2 V/Å 增加至 0.4 V/Å,更多能带穿越费米能级,P 态透射持续增强;AP 态透射也随之增加,但始终小于 P 态。当电场达到 0.25 V/Å 时,导带与价带的自旋劈裂分支发生交叉,上下两层的能带同时参与费米能级附近输运,AP 态由此打开额外通道。TMR 从约 1010 % 迅速降至 5.06 × 104 %,此后仍保持在 104 % 以上。 图 3. 电场和偏压对输运性能的调控(a-b)P 态和 AP 态总透射系数随电场变化(c)TMR 随电场变化(d)在 |E| = 0.2 V/Å 时,P 态电流、AP 态电流及 TMR 随偏压的变化 这一突变并非器件失效,而是层分辨输运机制发生了转换。在较低电场下,只有一层提供主要通道,器件表现为单层过滤;超过临界电场后,另一层的能带也跨越费米能级,输运转变为双层共同参与。对于 P 态,左右所有自旋通道仍能匹配;对于 AP 态,新增的费米面重叠使原先被阻断的部分通道重新开启。因此,层信号不仅是新型信息自由度,也可以充当器件工作窗口的原位“指示器”。 图 4.(a)不同电场方向与强度下的自旋—层分辨能带示意(b)两条能带跨越费米能级后的二维费米面示意图(c)|E| = 0.25 V/Å 时 P 态和 AP 态的费米面匹配情况(d-g)P 态和 AP 态的自旋分辨透射本征态 总结 本研究提出了一种不同于传统磁序翻转的交错磁隧道结写入范式。垂直电场打破双层 V2Se2O 的层间 PT 对称性,使隐藏的自旋极化显现;反转电场方向即可反转自旋劈裂的符号,从而在 Néel 矢量不变的情况下完成 P 态与 AP 态切换。由同一种双层材料连续构成的一体化架构减少了额外异质界面的需求,并在 0.2 V/Å 电场下产生约 1.10×1010 % 的巨大 TMR。 更具特色的是,器件输运具有层过滤属性:低电场下主要由单层承担隧穿,电场超过临界值后则转变为双层共同输运。层自由度既拓展了信息编码维度,也为监测最佳工作窗口提供了可检测信号。该工作为低功耗、高速度交错磁存储器件提供了全电调控的理论路线,也展示了将自旋与层自由度协同用于量子输运设计的潜力。 参考文献 Chao Mao, Shiqi Liu, Baochun Wu, Shunfang Li, Jinbo Yang, and Jie Yang. Electrical-controlled and […]

QuantumATK 低维电子材料与器件合集(九)

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铁电调控能带排列增强 BAs/In2S3 铁电隧道结的隧穿电阻 本研究设计了基于 BAs/In2S3 范德华异质结构的二维铁电隧道结,并研究其输运特性。在低偏压下,不同极化态的电流幅值存在显著差异,产生高达 108% 的巨大隧穿电阻(TER)比。投影能带分析表明,铁电极化反转使能带排列由 III 型转变为 I 型。进一步分析发现,极化反转改变了总电荷转移,并相应调节 BAs 与 In2S3 层中费米能级的位置,进而导致金属态与半导体态之间的转变,实现高 TER 比。结果显示,这类高性能二维铁电隧道结在非易失存储器和铁电场效应晶体管中具有重要应用潜力。(Computational Materials Science, 2025, 253: 113823. DOI: 10.1016/j.commatsci.2025.113823.) 双层 GaN 纳米片:面向下一代晶体管的潜在沟道材料 氮化镓(GaN)是一种很有前景的第三代半导体,氢钝化翘曲双层 GaN 具有独特的电子特性。本研究利用第一性原理量子输运模拟评估栅长为 5 nm 的双层 GaN 金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET)。器件性能对电极掺杂浓度和欠叠长度高度敏感。优化后的 n 型/p 型器件在低功耗应用中的导通电流分别为 1059/689 μA/μm,在高性能应用中分别为 2037/1247 μA/μm;对应延迟时间分别为 0.053/0.078 ps 和 0.047/0.073 ps,功耗分别为 0.033/0.032 fJ/μm 和 0.057/0.054 fJ/μm。这些指标超过 IRDS 对“5 Å 等效节点”的目标。在相同工作条件下,双层 GaN MOSFET 的导通电流优于单层 MoS2、InSe、InP、硅烯和锗烷。总体而言,双层 […]

面外极化增强的亚 5 nm Janus MoSiGeN4 场效应晶体管设计

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研究背景 随着晶体管栅长缩小到亚 10 nm,传统硅基场效应晶体管不可避免地受到短沟道效应限制,难以同时满足高性能(HP)和低功耗(LP)应用需求。二维半导体具有原子级厚度和无悬挂键表面,有利于增强栅控能力、抑制短沟道效应,因此成为后硅时代超短沟道晶体管的重要候选材料。本研究以 Janus MoSiGeN4 单层为沟道材料,利用 QuantumATK 中基于密度泛函理论的非平衡格林函数方法(DFT-NEGF)系统研究亚 5 nm FET 的工作机理、性能极限和优化策略,重点揭示内禀面外极化场在增强器件性能中的作用。 研究内容 研究首先比较了非极性二维半导体和极性 Janus 二维半导体在短沟道 FET 中的差异。对于 MoSi2N4、MoGe2N4 等非极性材料,上下表面对称,顶栅和底栅器件在零偏压和零栅压下具有相同电子势垒。相比之下,Janus MoSiGeN4 由于结构反演对称性破缺,形成面外极化,使顶栅和底栅器件具有不同势垒,从而为提高开态电流和改善亚阈值特性提供可能。 图 1.(a)基于“非极性”和“极性”二维半导体的场效应晶体管(FET)示意图。非极性(b1–d1)和极性(b2–d2)二维半导体的几何结构、有效势能及静电势差,分别以 MoSi2N4/MoGe2N4 和 MoSiGeN4 表示。在零偏压和栅极电压下,(e1)MoSi2N4 和(e2)MoSiGeN4 基 FET 的顶栅(Φe(TG))与底栅(Φe(BG))电子势垒。(f1)MoSi2N4 和(f2)MoSiGeN4 基 FET 的亚阈值斜率(SS)。 随后分析 MoSi2N4、MoSiGeN4 和 MoGe2N4 三种单层材料的几何结构和电子结构。计算结果表明,Janus MoSiGeN4 是稳定半导体,带隙约为 1.31 eV,介于 MoSi2N4(1.81 eV)和 MoGe2N4(1.02 eV)之间。由于面外电势不对称,MoSiGeN4 中存在从 Si 原子层指向 Ge 原子层的极化方向。在器件性能方面,构建以 MoSiGeN4 为沟道的双栅 FET,并与 MoSi2N4、MoGe2N4 器件进行对比。结果显示,7 nm 栅长 MoSiGeN4 FET 的开态电流达到 1030 μA/μm,更接近 HP 标准;5 nm 栅长器件开态电流达到 1015 μA/μm,超过 HP 标准约 12.8%。同时,MoSiGeN4 器件的亚阈值摆幅优于对照材料,说明面外极化有助于提高栅控效率。 图 2. 单层(a)MoSi2N4、(b)MoSiGeN4 和(c)MoGe2N4 的顶视图、侧视图及能带结构,虚线标记的菱形代表晶胞。(d)双栅极场效应晶体管的示意图。(e)7 nm 和(f)5 nm 栅长 MoSi2N4/MoSiGeN4 和 […]

Janus MoSi2N2P2 单层在纳米器件和光电晶体管中的应用

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研究背景 二维 MA2Z4 材料因具有优异的热稳定性、力学稳定性、可调电子结构和较高载流子迁移率,已成为低维电子学和光电子学中的重要候选体系。Janus 结构通过在材料上下表面引入不同原子层,打破面外对称性,为调控能带、极化、输运和光响应提供了新的自由度。此前 Janus MoSi2N2P2 的稳定性和光学性质已有理论预测,但其电子输运、场效应调控和光电响应等器件行为仍需进一步阐明。 研究内容 该研究首先构建了 α1 和 α2 相的 MoSi2N2P2、Mo(SiNP)2-A 和 Mo(SiNP)2-B 单层,并对其进行结构优化。声子谱、AIMD 热稳定性和弹性常数计算表明,这些二维单层具有良好的结构稳定性、热稳定性和力学稳定性。其中 MoSi2N2P2 单层兼具较好的柔性和尺寸稳定性,适合进一步用于柔性、超薄纳米电子器件的设计。 图 1. α1 和 α2 相的 MoSi2N2P2、Mo(SiNP)2-A 和 Mo(SiNP)2-B 单层的俯视图和侧视图(不同颜色小球分别表示 Mo、Si、N 和 P 原子) 在电子结构方面,能带和态密度结果显示,MoSi2N2P2 单层具有较窄带隙,有利于低电压下载流子注入和调制。进一步计算载流子迁移率,发现 Janus MoSi2N2P2 在 x 方向的迁移率高于 y 方向;其中 α1 相在 x 方向的载流子迁移率相较 MoSi2N4 有明显提升,并可与 MoSi2P4 的性能相媲美。 图 2. MoSi2N4、MoSi2P4 以及不同 Janus MoSi2N2P2 相关单层的投影能带结构和态密度。 随后,构建基于 Janus MoSi2N2P2 的 p-n 结二极管,并分别考察 zigzag 与 armchair 方向的电子输运特性。结果表明,该类器件具有明显整流效应;其中 α1 相 Z-type p-n 结在中等掺杂浓度下峰值电流密度达到 270.37 mA/mm2,并表现出负微分电阻现象,显示其在低维整流器和多值逻辑器件中的应用潜力。 […]

 
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