电学模拟一直是OLED模拟领域的一个难题,模拟的可靠性往往差强人意,主要原因是旧的理论模型对于材料的掺杂问题、激子行为缺乏进行正确描述。Bumblebee采用了最先进的模拟理论,对OLED堆叠结构采用细致的三维格点模型,采用精确的理论,描述极化子传输、激子传输、激子-极化子与激子-激子相互作用、电荷转移态、偶极矩、热振动等模型,在仿真质量上相对于旧模型有质的飞跃,真正做到从分子的层面模拟像素级别的器件。

近十年的技术发展
只能进行单极电荷传输的模拟 → 双极电荷传输模拟 → 电流密度-电压(J−V)特性和辐射分布曲线与实验数据密切吻合 → 激子-激子和激子-极化子相互作用被纳入,再现 EQE 滚降特性 → 热活化延迟荧光(TADF)过程被纳入 → 纳入(CT)态对 IQE 的影响 → 纳入分子部分取向静态电偶极矩的影响 → 增加瞬态光致发光模拟能力。
以上技术发展均已在Bumblebee内实现。
传统研究方式的弊端
- 试错法 → 大量实验
- 每个新的材料组合 → 优化必须重新开始
- 寿命/退化 → 实验测试耗时
OLED/OFET 器件堆叠结构设计的重要性
- 器件的行为、性能、寿命不仅仅受材料影响,也直接受堆叠结构本身的影响,如果不提堆叠结构,就不可能说一种材料比另一种材料好
- 没有一种完美的材料能在所有情况下都起作用
- 一种材料在一个堆叠中表现很好,在另一个堆叠上表现很差
- 通过模拟,能预测、帮助改进特定堆叠所需的材料特性
- 堆叠设计可以帮助减少器件的缺点
- 材料一般并不完美,堆叠设计可以帮助最大限度地减少某些损失
- 通过模拟识别出关键的损失通道,指导更高效的器件构架设计
- 可针对特定应用(例如,显示器、照明、汽车等)优化器件
- 堆叠设计需要达到::
- 器件高效
- 器件对某些参数(例如生成过程中必然存在的微小变化)不太敏感,如果一种设计对参数特别敏感,在生产的角度就没有太大的价值了
Bumblebee模拟激子在OLED材料层间的传输与发光
Bumblebee 的功能
- Bumblebee 概览(B站)
工作逻辑
用户提供材料参数(包括HOMO、LUMO能级,载流子传输相关参数、激子参数),以及堆叠设计(层厚度、层内材料情况),软件通过载流子传输理论通过蒙特卡洛模拟得到电流-电压特性,通过激子行为的多种理论得到激子的复合发光、传输、解离、非辐射衰减等情况,以及EQE滚降等特性。从应用上,通常用户无法得到材料所有参数,因此往往通过实验测量的J-V曲线、EQE滚降曲线,逆向反推材料参数,明确材料参数后,基于这些参数,正向优化堆叠设计。
模拟对象为,电子传输层与空穴传输层之间的堆叠结构(不含阴极、阳极,堆叠结构与电极之间简化为欧姆接触)。
光电特性
- 支持最先进的材料:常规 OLED/OFET 材料,TADF 发射体和超荧光材料、真空、掺杂、缺陷
- 精确的载流子动力学模型
- 精确的激子动力学模型:激子的Dexter、Förster传输,激子湮灭,极化子猝灭,三重态捕获、激基复合物、振动耦合
- 扫描器件工作特性:电压扫描、光照扫描、温度扫描
- 输出:
- 发光光谱
- 电流-电压曲线
- 电容
- EQE滚降特性
- 电子、空穴、激子在堆叠结构中的分布
- 激子复合、辐射衰减、非辐射衰减、淬灭、湮灭等行为在堆叠结构中的分布,以及在不同材料中的分布
- 光致发光
- 光照、电压脉冲引发的瞬态响应、小信号分析
- 亮度-电压关系
材料参数如何确定?
- 激子参数:通过材料薄膜的 PL 含时演化特性,以及材料发光光谱获取激子参数,包括激子能级、kIRC、kRISC、kR、kNR 等
- 电子参数:
- 电化学方法等获取 HOMO、LUMO 能级
- 通过 AMS 软件进行精确 GW 方法计算得到 HOMO-LUMO 能级、激子能级、载流子迁移率、ISC、rISC等参数
- 通过实验得到的 J-V、EQE-J 滚降曲线逆向拟合,对实验得到的电子、激子参数进行调优
定准了材料参数,研究者即可真正进入堆叠设计与优化的自由王国。

功能案例图示
使用Bumblebee发表的文章列表,请参阅:AMS知识库













Bumblebee应用教程,请参阅:AMS知识库
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