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版本:2015.1
沉积在金属基底上的绝缘材料超薄膜构成了一类特殊的材料,在不同的领域具有可调特性和增长潜力 [GP11] [Pac12] [PH13]。在本教程中,您将学习如何通过沉积另一种材料的覆盖层来更改基材的功函数。
功函数的调整
在金属基板上沉积薄绝缘膜的一个重要结果就是金属载体功函数的诱导变化,会根据界面的性质而降低或增加。在文献中已经报道过这种功函数变化的例子。利用开尔文探针力显微镜或扫描隧道显微镜研究 Au(111) 和 Ag(100) 上的碱金属氯化物薄膜,显示功函数有 0.5-1.2 eV [LZE04] [PPS + 05] 的降低。另一项基于场发射共振的研究发现,高达3 ML的NaCl岛状物的功函数降低了 1.3 eV [PBP + 07]。理论计算预测了各种金属上的 NaCl,MgO 和其他氧化物功函数的降低 [BTI04] [GCP06] [PMP08]。
您将计算由于沉积 1 至 3 层绝缘 MgO 形成金属的 Ag(100) 表面功函数变化。计算功函数的过程遵循教程 Computing the work function of a metal surface using ghost atoms 中给出的指示。,
特别地,您将:
计算设置
在本教程中,您将使用一组特定的计算设置(网格截断,k 点取样,基组,交换关联,金属层数等),这些设置的选择使得 QuantumATK 的结果可以与文献比较。但请务必记住,您应该检查您的结果在这些设置下是否适当地收敛。