BAND作为新兴第一性原理计算软件，在材料化学领域具有非常鲜明的特点：

1. 由于BAND中的表面模型为真实的二维模型，因此不再需要人为地添加真空层，也不需要进行偶极矫正，对表面吸附计算的可靠度与效率高于平面波程序。
2. 一维、二维体系计算效率与精度高于平面波程序
3. 擅长成键分析，例如表面成键的键能分析（pEDA）、共价键成键机理研究（NOCV）
4. 分析能带与化学键的关系（Crystal Orbital Overlap Population）
5. 不依赖于赝势，计算元素周期表中所有元素

• 分子隧道结量子干涉的原位开关(Angew. Chem. Int. Ed. 2020)
• WS2-WSe2异质层间激子扩散扭曲角依赖(Nat. Mat. 2020)
• 具有半导顺磁态的二维COF材料(JACS 2020)
• 电子耦合如何决定分子晶体不同晶相的能量稳定性？（Chem. Mater. 2019）
• pEDA分析用于电子输运研究，《极端制造》2019
• 原位观察活性MoS2模型催化剂加氢脱硫（Nature Comm.，2019）
• 费托反应研究最新进展（Nature Comm.，2019）
• 核四极共振调制：频率选择性MRI造影剂设计新方法（Phy. Rev. X，2018)
• 诺贝尔奖得主 Roald Hoffmann对金属卤化物钙钛矿中成键“镜像”现象的研究(JACS, 2018)
• 通过对扩展系统的能量分解分析，推导分子、表面和固体的成键概念（WIREs Comput. Mol. Sci., 2018）
• 单分子扫描静电计显微镜（Science Advances，2018）
• 硅表面醚吸附－计算表面化学与分子计算化学共同点的最佳案例（Angew. Chem. Int. Ed., 2017）
• 二氧化硅衬底对单层石墨烯表面吸附水分子的影响(Langmuir, 2011)

• 分子隧道结量子干涉的原位开关(Angew. Chem. Int. Ed. 2020)

• 负载型离子液体相（SILP）金基催化剂上乙炔氢氯化反应：氯化氢化学活化对阳离子金的稳定作用及其机理(催化学报 2020)
• 不饱和纳米多孔石墨烯气体吸附(Mol. Simulat. 2020)
• Chemisorption and Physisorption at the Metal/Organic Interface: Bond Energies of Naphthalene and Azulene on Coinage Metal Surfaces(. Phys. Chem. C 2020)